etch

  • 111foil-etch technique — folijos ėsdinimo būdas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. foil etch technique vok. Folienätztechnik, f rus. способ травления фольги, m pranc. technique à décapage de feuille, f …

    Radioelektronikos terminų žodynas

  • 112metal-film etch resist — metalo sluoksnio ėsdinimo rezistas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. metal film etch resist vok. Fotolack für Metallätzung, m; Metallätzresist, n rus. резист для травления металлической плёнки, m pranc. résist pour… …

    Radioelektronikos terminų žodynas

  • 113radio-frequency plasma etch — aukštadažnis plazminis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. radio frequency plasma etch vok. Hochfrequenzplasmaätzen, n rus. высокочастотное плазменное травление, n pranc. décapage par plasma haute fréquence, m …

    Radioelektronikos terminų žodynas

  • 114pre-etch hardbake — kaitinamasis kietinimas iki ėsdinimo statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. pre etch hardbake vok. Härtung vor dem Ätzen, f rus. отверждение термообработкой перед травлением, n pranc. traitement thermique avant décapage, m …

    Radioelektronikos terminų žodynas

  • 115ion-beam etch machine — jonpluoštis ėsdintuvas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion beam etch machine; ion beam etcher vok. Ionenstrahlätzer, m rus. установка ионно пучкового травления, f pranc. machine de décapage à faisceau ionique, f …

    Radioelektronikos terminų žodynas

  • 116ion-etch reactor — joninis ėsdintuvas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion etch reactor vok. Ionenätzreaktor, m rus. реактор для ионного травления, m; установка ионного травления, f pranc. réacteur de décapage ionique, m …

    Radioelektronikos terminų žodynas

  • 117plasma etch mask — plazminio ėsdinimo kaukė statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. plasma etch mask vok. Plasmaätzmaske, f rus. маска для плазменного травления, f pranc. masque pour décapage à plasma, m …

    Radioelektronikos terminų žodynas

  • 118plasma etch cleaning — plazminis ėsdinamasis valymas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. plasma etch cleaning vok. Plasmaätzreinigung, f rus. очистка плазменным травлением, f pranc. nettoyage par décapage à plasma, m …

    Radioelektronikos terminų žodynas

  • 119silicon etch solution — silicio ėsdinimo tirpalas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. silicon etch solution vok. Siliziumätzflüssigkeit, f rus. жидкий травитель для кремния, m; раствор для травления кремния, m pranc. décapant liquide pour silicium, m …

    Radioelektronikos terminų žodynas

  • 120anisotropic etch profile — anizotropinio ėsdinimo profilis statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. anisotropic etch profile vok. anisotropes Ätzprofil, n rus. профиль анизотропного травления, m pranc. profil de décapage anisotrope, m …

    Radioelektronikos terminų žodynas